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中端國產光刻機誕生

來源: | 發布日期:2023-05-30
中端國產光刻機的誕生標志著中國在半導體制造領域的重要進展。光刻機是半導體制造過程中的關鍵設備,用于將芯片的電路圖案投射到硅片上。傳統上,全球主要的光刻機供應商都集中在美國、歐洲和日本等發達國家,中國一直依賴進口光刻機來滿足國內芯片制造需求。然而,隨著中國對半導體自給自足的追求和技術實力的提升,中國開始投入大量資源和努力來發展自己的光刻機制造能力。
中端國產光刻機誕生
中端國產光刻機誕生主要是上海微電子的90nm光刻機,90nm光刻機經過兩次曝光,可以制成45nm的芯片,三次曝光后可以制成22nm的芯片。當然,隨著曝光次數越多,良品率會越來越低,因此此光刻機主要集中在中端領域,此光刻機在2007年就研發出來了,但是到了2018年才實現量產,可見光刻機每一步都很艱難,截止至目前,我國量產的光刻機仍然停留在90nm。

很多人說要彎道超車,但是在光刻機這種技術非常復雜的設備上,我們也只能一步一步來,希望中國有朝一日也能量產出7nm的EUV光刻機。

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